章)沧海扬帆第一卷汹涌澎拜第二百九十九章摩尔定律你听说过没有08实验室正在研制的光刻胶，也是国度半导体后备技能的一部分。
在这个时期，光刻胶并不属于外洋向中国禁售的产物。国际上生产光刻胶的厂商众多，国内的半导体企业能够轻而易举地买到种种光刻胶，并且代价也并不昂贵。
然而，国度却依然向枫林研究所下达了研制光刻胶的任务，其目的就是为了万一遭遇到外洋的封闭，国内自己也能够提供出适用的光刻胶，确保少数干系国度宁静的集成电路的生产不受影响。
所有的人都知道，国内自己研制的光刻胶生产本钱会远远高于入口产物，质量则是远远不及，在市场上是绝对没有竞争力的。
但是，当事关国度生死生死的时候，这些问题另有须要思量吗？
枫林研究所研究的许多技能，都具有这样的特征。相比西方国度而言，这些技能平均要落伍一至两代，纵然送给别人，人家也不屑一顾。
可这并不意味着枫林研究所的保密制度就是多余的。保密的目的在于让敌手不清楚我们的研究进度到了哪一步，无论对方高估大概低估了我们的水平，都市在战场博弈大概经济博弈中犯下一些或大或小的错误，而这些错误，大概就会成为我们的时机。
这是弱者的一种生存战略。
高凡对付国度的整体战略并不十分相识，但在他从云中明那里听到“光致抗蚀剂”这个词的时候，他就产生出了一个念头：
大概，自己能够做一些事情。
“徐师兄，我听毕主任说，你们正在研究的是g线光刻胶。对付i线以及krf光刻胶，你们有没有涉及？”高凡问道。
他说的毕主任，叫毕连生，是08实验室的室主任，一位不苟言笑的中年知识分子。
光刻技能，凭据使用的光源差别，可以分为许多类，大概称为差别代际也可以。
上世纪60年代，光刻技能方才出现的时候，使用的是普通的可见光光源，那时候的光刻机其实就是拿一个大灯胆照射掩膜板，和照相馆里冲洗照片没啥区别。
80年代，光源进化为采取高压放电汞灯产生的436纳米和365纳米光源，前者称为g线光源，后者称为i线光源，都属于近紫外光源。
90年代之后，出现了使用准分子激光器的248纳米、193纳米和157纳米光源，分别称为krf、arf和f2光源，属于深紫外光源。
再至于被誉为“皇冠上的明珠”的euv光刻机，使用的是13.3纳米的极紫外光源，它的出现时间已经要算到2010年之后了。
时下，g线光源照旧集成电路制造中使用的主流光源。i线光源光刻机已经问世，但还没有得到大范围推广。至于krf，实验室看法已经提出来了，真正投入使用，还得是十年后的事情。
光刻的原理，与冲洗照片是一样的。首先，要把电路图制作成底片，称为掩膜。光源通过掩膜照射在涂了光刻胶的芯片基材上。
光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中的感光剂在光芒照射下会产生反响，使曝光区的光刻胶溶解，这就相当于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。
随后，再举行蚀刻、离子注入、封装等操纵，一枚芯片就制作完成了。
光刻胶中感光剂的选择，与光源是密切相关的，这涉及到化合物在差别波长光芒作用下的变革，机理十分庞大。
徐云是知道这些看法的。他原本就是物理系的学生，枫林研究所聘请他的老师前来参加这个项目，就是因为其中涉及到一些光学方面的问题。他在项目组里耳濡目染了这么久，对付这些问题自然是非常相识的。
听到高凡的问题，徐云也只能把心里那些杂念抛开，认真地答道：“我们现在研究的重点，就是g线光刻胶，这也是目前应用最遍及的。
“i线光刻胶这方面，毕主任在实验室集会会议上提过频频，让大家有时间做一些积聚，不外目前条件还不成熟。再至于说krf光刻胶，似乎外洋也方才开始研究吧？”
“你说i线光刻胶的条件不成熟，是指什么？”高凡问道。
徐云道：“不是我说的，而是毕主任说的。现在国内基础就没有使用i线光源的光刻机，外洋也不多，研究i线光刻胶，是不是有些操之过急了？”
“我想跟你说的，就是这个。”高凡说，“对了，徐师兄，摩尔定律你听说过没有？”
“虽然听说过。”徐云不忿地说，“不就是集成电路上的晶体管数量，每两年就增加一倍吗？我们好几个老师上课的时候都提过。”
“不愧是科大，思维很前卫。”高凡翘个大拇指，赞了一句，却换来了徐云一个白眼。
摩尔定律是1965年提出的，不外直到70年代中期才受到人们的重视。随着集成电路技能的迅猛生长，摩尔定律一再得到印证，一时间在西方科技界和财产界倍受推崇。
此时的中国，在全球半导体市场上完全是小透明，基础不具备评论半导体财产生长的资格，因此也就没什么人会存眷和提及摩尔定律。
徐云说他有好几位老师上课时候都提过摩尔定律，高凡自然是要体现钦佩的。只是以他的身份，摆出这样一副嘴脸来夸奖中科大，徐云怎么能不对他体现一番鄙夷。
“既然你知道摩尔定律，那么你想想看，芯片制造技能将会以什么样的速度生长？g线光刻机肯定很快就会掉队，下一代i线光刻时机迅